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GIST, 연구실 기술 창업으로 잇는다… '2026 텍스코어', 국내외 시장 검증
“탄소를 잠깐 넣었다 빼니, 반도체 배선 저항 45% 뚝!” GIST-삼성전자 SAIT-MIT, 차세대 반도체 배선 소재 제어 기술 《사이언스》에 발표
과정명: 대학원생 R&D 기본 과정
교육기간: 8/17 ~ 19 (2박 3일)
신청방법: www.kird.re.kr 에서 직접 신청
* 교육내용 등 자세한 사항은 첨부파일을 확인하시기 바랍니다.